BF1200高温箱式炉设计用于电子元件、玻璃、陶瓷粉料的预烧、烧结，亦可作为其它陶瓷产品、稀土元件、磁性材料等的烧成之用。保温材料采用高纯轻质氧化铝纤维，30段PID程序温控仪控制；具有升降温速率调整范围大，生产效率高，节能等特点，设备外型美观，非常适合于科研单位小批量生产或产品工艺摸索。

VMF-I小型真空熔炼炉为卧式前开门桌面式结构设计，结构新颖外形美观。主要供大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对金属材料（如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等）的熔炼处理，也可进行合金钢的真空精炼。

VHF1700-I真空氢气炉专针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火，其最高温度可高达1700℃。采用氧化铝纤维作为炉膛材料（炉膛尺寸为200 x 200 x 200 mm），以钼丝作为加热元件，炉体顶部密封板中嵌有冷却水管，以保证仪器工作时的密封性能，可以在惰性气体或还原性气体环境下烧结材料（如荧光材料，钛合金等）。

BAF1700真空气氛炉这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统

BAF1600真空气氛炉这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统

BAF1400真空气氛炉这款气氛箱式炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统

这款气氛箱式炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，30分钟内能达到1000度，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统$nBAF1200真空气氛炉

TF1700真空管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。