BF1200高温箱式炉设计用于电子元件、玻璃、陶瓷粉料的预烧、烧结，亦可作为其它陶瓷产品、稀土元件、磁性材料等的烧成之用。保温材料采用高纯轻质氧化铝纤维，30段PID程序温控仪控制；具有升降温速率调整范围大，生产效率高，节能等特点，设备外型美观，非常适合于科研单位小批量生产或产品工艺摸索。

BAF1700真空气氛炉这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统

BAF1600真空气氛炉这款气氛箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统

BAF1400真空气氛炉这款气氛箱式炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统

这款气氛箱式炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，30分钟内能达到1000度，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统$nBAF1200真空气氛炉

TF1700真空管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。

这款管式炉以1800型硅钼为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、TF1600真空管式炉

这款管式炉以硅碳为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、TF1400真空管式炉